污水池離子除臭設(shè)備是由離子發(fā)生器、離子傳送管、控制系統(tǒng)組成、用來除臭、   異味的空氣凈化設(shè)備，普遍應(yīng)用于新風系統(tǒng)、工廠、車間、污水站、垃圾除臭等場所。常見的有等離子除臭設(shè)備、   離子除臭設(shè)備、光氫離子除臭設(shè)備。

污水池離子除臭設(shè)備的主要原理是在高壓電場作用下，產(chǎn)生大量的正、負氧離子，具有的氧化性。能在短的時間內(nèi)氧化、分解甲硫醇、氨、硫化氫、醚類、胺類等污染臭氣因子，打開揮發(fā)性氣體的化學鍵，終生成二氧化碳和水等穩(wěn)定的小分子，從而達到凈化空氣的目的。

污水池離子除臭設(shè)備適用于：垃圾、污水廠等市政設(shè)施，以及制藥廠、油漆廠、涂料廠、皮革廠、石油化工、農(nóng)藥廠、制藥廠、印刷廠、造紙廠、飼料加工廠等等工業(yè)場所。

污水池離子除臭設(shè)備除臭原理： 光化學離子除臭工藝是一種地處理方法，除臭。其原理為離子輻射直接活化臭氣體分發(fā)生分解的直接反應(yīng)與輻射活化其他氣體分子再分解臭氣分子的間接反應(yīng)相結(jié)合的一種氧化技術(shù)，綜合利用了高強輻射場離子對惡臭物質(zhì)的破壞作用和氧對惡臭物質(zhì)的氧化去除作用來去除惡臭氣體中的硫化氫、氨、甲硫醇等VOC（揮發(fā)性物），并利用了水和氧在輻射下分解所產(chǎn)生的活潑的次氧化劑（OH自由基）來氧化分解惡臭氣體，改變臭氣分子的物化特性，終污染無字碑活性氧分解成CO2、水和其他小分子化合物以達到除臭目的。高強輻射場和氧一道，存在一個協(xié)同作用，這種協(xié)同作用使該技術(shù)對惡臭的祛除速率飛、7至9個數(shù)量級的增加，即反應(yīng)速度增加千萬至十億倍。整個除臭過程中受外界影響少，所有的產(chǎn)物對人體及空氣無影響，不產(chǎn)生二次污染物。 

污水池離子除臭設(shè)備臭氣處理反應(yīng)過程： 硫化氫 硫化氫的光化學反應(yīng)如下 O3+hv→O2+O O+H2O→2OH O+O2→O3 H2S+O3+hv→S2-+H2O+O2 氨 氨同樣可以在光化學離子氣體處理設(shè)備中較好的去除，發(fā)生初級光化學離子反應(yīng)后的分子或者吸收輻射后繼續(xù)發(fā)生化學變化，產(chǎn)生的產(chǎn)物能夠進一步與刺激化學過程。氨的光降解設(shè)計一下反應(yīng)： 

（1）觸發(fā)反應(yīng) O3+hv→O2+O O2+hv→O+O NH3+hv→NH+2H O3+OH→HO2+O2- H2O→O2- +H+ 

（2）傳遞過程 O+H2O→2HO O+O2→O3 O2-+O3→O3- +O2 O3- +H+→HO3 2NH→N2+2H 

（3）終止反應(yīng) 2NH+O→N2+H2O 甲硫醇 甲硫醇的光化學離子反應(yīng)和硫化氫的類似，同樣是因為HS-結(jié)構(gòu)形式的破壞而失去臭味。 O3+hv→O2+O O+H2O→2OH O+O2→O3 HS - +O3+hv→S2-+OH+O2 

污水池離子除臭設(shè)備產(chǎn)品特點 

①　、光化學是一種經(jīng)濟的實用技術(shù)：通常處理的惡臭氣體具有量大、低濃度的特點，是和光化學反應(yīng)這一抵消   的處理技術(shù)。 

②　、反應(yīng)，除臭效果優(yōu)良：輻射場和氧存在著一個協(xié)同作用，實驗表明這種協(xié)同作用使該技術(shù)對惡臭去除的速率7至9個數(shù)量級的增加，這樣設(shè)備的體積小，占地和空間小，尤其對于改造，增設(shè)的情況。 

③　、模塊化的產(chǎn)品構(gòu)造，可以靈活搭配使用，適合臭氣緣分快、分期獨立處理。 

④　、設(shè)備運行穩(wěn)定：設(shè)備內(nèi)部無高溫高壓等部件，，運行穩(wěn)定，開啟后無需特別的保養(yǎng)管理。 

⑤　、設(shè)備的維護工作量小：光/氧反應(yīng)過程受外部環(huán)境影響小，除臭效果可以叫持續(xù)穩(wěn)定，管路維護工作量簡單。 

⑥　、設(shè)備風阻小，250Pa左右，運行費用低，操作簡單方便。 

⑦　、設(shè)備的核心部件--反射管采用好的關(guān)光源，可穩(wěn)定的輸出反應(yīng)所需的短波光子能量，使用壽命長。 

⑧　、設(shè)備可設(shè)定就低手動控制、PLC自動控制；設(shè)定的正常運行、經(jīng)濟運行模式：提供傳遞運行信息與故障燈信號。